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荷兰被迫紧急叫停向中方出售光刻机的合作,武汉科学家力挽狂澜,白宫,白宫表示中国前进的脚步已难以阻挡

  • 日期:2020-01-16 12:09:58
  • 来源:互联网
  • 编辑:小优
  • 阅读人数:1006

我们知道,如果一个国家想要大规模生产自己的集成电路的话,光刻机是必不可少的装备。然而这种设备的制造难度非常高,对光学和电子工业基础有着很高的要求。并且研制成本非常高。世界上只有一个国家能够生产出光刻机,那就是荷兰,就连美国也造不出来。光刻机的成本有多高呢?一台普通的光刻机研发成本大约是5亿美元左右。

荷兰被迫紧急叫停向中方出售光刻机的合作,武汉科学家力挽狂澜,白宫,白宫表示中国前进的脚步已难以阻挡(图1)

售价的话可能会翻几倍,毕竟物以稀为贵。此前,中方在机械工业上都难以做到相当精密,所以需要长期从外国引进光刻机。然而由于做工复杂,我制了很多年,仍捉摸不透。在机械工业上,我国也通过努力不断追赶上西方水平。过去我们基本上百分之百依赖进口,但现在我们正在不断扭转这样的逆差。但用来进行大规模集成电路常态化生产的光刻机产品上,依然需要依赖于进口。

荷兰被迫紧急叫停向中方出售光刻机的合作,武汉科学家力挽狂澜,白宫,白宫表示中国前进的脚步已难以阻挡(图2)

荷兰是世界上最著名的光刻机制造商,而ASML公司又是整个荷兰最大的生产商,两年前,我国就与荷兰政府达成协议,而ASML公司也承诺,向中方出售价值3亿美元的光刻机。美国深知,中方正在集成电路在极高的水平芯片领域突飞猛进,所以他们要求荷兰立即终止这笔交易。果不其然,在美国政府的施压下,荷兰被迫紧急叫停向中方出售光刻机的合作。

荷兰被迫紧急叫停向中方出售光刻机的合作,武汉科学家力挽狂澜,白宫,白宫表示中国前进的脚步已难以阻挡(图3)

面对美国这种惯用的卑劣手段,我们无法改变,只能靠自己努力了。乱世出英雄,逆境往往使人成长,武汉光电国家研究中心甘棕松团队采用远场光学的办法,光刻出最小9纳米线宽的线段,而这一成果,将会成为我国在光刻机上研发的里程碑。在得知中国自己研发出来后,白宫表示中国前进的脚步已难以阻挡。

本文相关词条概念解析:

光刻机

光刻机/紫外曝光机(MaskAligner)又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻,所以叫MaskAlignmentSystem.一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。Photolithography(光刻)意思是用光来制作一个图形(工艺);在硅片表面匀胶,然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。

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